УФ-фильтр K&F Concept Nano-C HMC - 52 мм

УФ-фильтр K&F Concept Nano-C HMC — незаменимый инструмент в арсенале каждого фотографа. Он не только эффективно защищает объектив от пыли, загрязнений и механических повреждений, но и помогает улучшить качество фотографий.

Основные характеристики

• Совместим с резьбой 52 мм
• Защищает объектив от пыли, грязи и отпечатков пальцев
• Уменьшает воздействие УФ-излучения, улучшая качество фото
• Изготовлен из высококачественного японского оптического стекла
• 18-слойное покрытие HMC (Hard Multi-Coated)
• Ультратонкая оправа (толщина 3,3 мм) предотвращает виньетирование

Благодаря многослойному покрытию HMC и использованию японского оптического стекла фильтр гарантирует уменьшение отражений и бликов, улучшая контрастность и четкость фотографий. В комплекте идет защитный футляр для безопасной транспортировки.